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技術文章

真空井式坩堝爐的結構及參數說明

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真空井式坩堝爐是由氧化鋯坩堝或者氧化爐坩堝。工作溫度區間800℃至1600℃。該系列設備的控制系統,具有安全可靠,操作簡單,控溫度高,保溫效果好,爐膛溫度均勻性高,可通氣氛抽真空等特點,廣泛應用于高等院校,科研院所,工礦企業等實驗和小批量生產。 真空井式坩堝爐以進口含鉬電阻絲或者硅碳棒為加熱元件,采用雙層殼體結構和智能化程序控溫系統,移相觸發、可控硅控制,爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料,雙層爐殼間配有風冷系統,能快速升降溫,具有真空裝置,該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點。
主要用途:高校、科研院所、工礦企業主要用于煅燒真空或惰性氣體中的高純度化合物,退火或擴散半導體晶片,也可以用于烘燒或燒結陶瓷材料等。
技術參數

產品型號AFD-2-17TP
工作電源AC220V 50/60HZ
爐膛尺寸外徑150x內徑130x高200mm
額定功率≤6kw
外形尺寸450x550x650mm
重量70kg
升溫快速度0~30℃/min(建議不超過20℃)
產品特點可裝真空裝置,能在多種氣氛下工作,50段程序控溫
加熱元件硅鉬棒
常用溫度≤1500℃
高溫度1600℃
控溫方式50段智能化程序PID模糊控制
恒溫度±1℃
控溫儀表智能溫控儀
密封方式全封閉
爐膛氧化鋁多晶纖維爐膛,設計合理,經久耐用,保溫性能好,節能
測溫元件B型熱電偶
爐門結構上開式
主要配件密封法蘭1套,坩堝1個,真空泵1臺,高溫手套1副,熱電偶1根等
大真空限≤0.1MPa




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